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石墨舟状态对镀膜均匀性的影响

2020-08-29

将新石墨舟及应用超出三年的旧石墨舟饱和状态后开展PECVD表层的镀膜,片间匀称性差别如图所示7所显示。由图7得知,新石墨舟表面平面度好,石墨舟片导电率一致,塑料薄膜分子结构能够匀称地沉积在硅片表面,片间匀称性更优质。图8为新石墨舟在应用周期时间内的片间匀称性趋势分析图。

新石墨舟饱和状态后在沉积时仍有一部分等离子技术在石墨舟上面沉积,运作频次低于三十次时,伴随着运作频次的提升,石墨舟上面沉积的等离子技术降低,片间匀称性越佳。运作频次超过三十次后,伴随着应用频次的提升,石墨舟片内腔与硅片触碰边沿处塑料薄膜增厚,静电场反倒强大,产生大量的低温等离子沉积,易出現不一样水平的边沿泛白状况,造成 片间匀称性多次下降。



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